第188章 极紫外光源研制成功了
此时，已经上午10点钟了。
许黎看着试验台上的东西，终于是松了一口气。
“终于做出来了！”
然后他就瘫在椅子上，身心顿时放松了下来。
毕竟这吸转器可没有那么容易搞定。
需要尝试不同的吸收材料，对比参照实验，这样才能更大程度的处理碎屑污染。
经过一番筛选后，许黎在小黑的帮助下，成功弄出一种合成材料，才达到不错的碎屑吸收效率。
将其制成吸转器，可以将碎屑吸收，并且进一步的转化成电能。
其中的构造可谓是复杂无比。
这时，许黎听到身后有脚步走动的声音。
李默的身影就出现在他身旁，看了试验台那一个环状装置顿时眼睛一亮。
“校长，这吸转器搞出来了？”
“嗯，可费了我不少的脑细胞，现在赶紧将光源搞出来看看吧！”
许黎回道。
“那好，我叫徐教授过来。”
不久，徐华来到了实验室，对许黎做出来的吸转器亲自测试了一番，为此赞不绝口。
“这下子太好了，我们可以不用之前的两种方案类，直接安装吸转器就可以了，这样极紫外光源就可以搞出来了！”
徐华很是高兴地说道。
“啊哈~那你们先搞着，我先去隔壁休息了，熬了一夜了，有问题再叫我！”
许黎打了个哈欠。
“好，那校长你先休息一下，后面的工作就交给我们把。”
“嗯，好。”
许黎实在困得不行了，就直接出了实验室去了隔壁的休息室休息，那里有临时打的床铺，专门给经常熬夜研究的科研工作人员休息用的，还准备了一些必要的常规药品和直饮水机，以防不时之需。
许黎关上了门，闭上双眼，沉入梦境。
而梦境之内，他就像一个旁观者，浮于梦里，看到了一个个心想事成的片段：
国产极紫外光刻机横空出世、震惊世界，自己创办的燧人大学也正式进入了全国乃至世界的眼里，学子络绎不绝，仿佛汪洋大海般的，容纳这些孜孜不倦追求理想和智慧的学子....
而后就是一段一段的模湖片段，因为速度很快，看不清发生了什么。
但最后，他忽然辗转之间，来到群星之间，回首望去，一个星系在他眼前映现。
那是太阳系，人类赖以生存的恒星系。
而这时，一道流光似乎划破了星空，直入太阳系，带着宛如“彗星”的尾巴，消失不见了。
“校长！校长！”
忽然，一道兴奋而激动的声音在他耳边响了起来。
许黎从梦境挣脱，睁眼之时，只见李默已经在床前站着了。
许黎揉着惺忪的双眼，疑惑道：“怎么了？”
“成功了！我们的极紫外光源研制成功了！”
李默面色激动地道。
许黎立扫困意，睁大了眼，“真的？我们一起去看看！”
他也不顾李默了，直接离开休息室。
等他来到实验室后，发现已经有不少人正围着一个机器，有些还在一边拿笔记本或电脑记录着什么数据。
“校长，你来了。”
徐华见到许黎两人到了，挥手示意让其他人让出路来。
许黎走过来一看，发现一个箱形装置已经静静地躺在试验场地中央。
“这就是极紫外光源？成功了？”
许黎疑惑道。
“是的，我们已经成功将该光源研制出来了，再经过我们多次重复试验以及对比论证，现在，过程极紫外光刻光源已经完成了研制，加上我能独立设计的透镜物镜及其光学系统，其性能超过目前国汉斯猫的5倍左右，如果能够配合好的其他光刻机部件，那该组装完成的光刻机可以综合提升35%左右，可以制作性能优秀的5纳米芯片......”
徐教授兴奋地解释道。
他还从来没有相关，一个工业明珠上的皇冠的一个核心部件，就这样被他们攻克了。
只要给他们时间，燧人科技也能挤进全球半导体顶尖玩家的殿堂，成为euv光刻机部件供应链的厂商之一。
到时候也能在半导体领域上拥有自己的话语权，即使没有拥有全套的光刻机制造技术，但是起码不至于让国内这么的被动。
“既然如此，我们也应该通知一下我们的盟友，想必他们也等急了。”
许黎一笑。
“好！”
徐华应了一声。
春城，长光电所
陈所长此刻正愁着怎么改进光刻机呢。
虽然之前已经通过花为的牵线搭桥和燧人科技搭上了，主要是合作改造现有光刻机。
而这个改造的光刻机主要是28nm的光刻机，因为现在国内的光刻机也只能勉强达到28nm工艺。
据魔都微电子透露，明年他们有望交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。
算是在刚好迈在高端光刻领域的门槛，也就是现在国内的光刻科技水平还停留在中端水平。
根据光刻机工艺水平，光刻机主要划分为超高端、高端、中端、低端四个层次。
首先，光源euv13.5nm、节点5nm/7nm的光刻机是处于超高端层次的，全球只有amsl这一家公司可以组装制造。
其次，光源arf+浸入式，节点在7~28nm处于高端层次的。
最后，光源arf/krf/i-line，且节点是65nm+或90nm+的，分别处于中端、低端层次。
注意，这里的arf/krf指的是深紫外光刻光源。
想要制作更好的的芯片，那就得造出更好的光源，比如极紫外光源（euv）。
即使是这种arf 28nm光刻机和amsl公司最先进的euv5nm光刻机工艺有着天壤之别。
但是也能将国内的光刻水平提升到世界先进水平，完全可以满足常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、电器的驱动芯片等绝大部分逻辑芯片的要求，以及大部分数字芯片的要求。
陈所长也听说三桑目前正在研究3nm芯片工艺的光刻机，也许很多人都以为很厉害，但是对于他这种业界的人自然知道其中的道道。
现在的7nm或5nm芯片，不是从前的含义，最准确的是牙膏厂的命名，只是它也学坏了。
芯片的纳米制程并不是真的几纳米，更多是一种更新迭代的说法。
上一代可能是4nm，下一代根据摩尔定律乘以根号7，差不多3nm。
以前的制程是指晶体管的宽度，现在则是晶体管的沟道宽度，就出了这种个位数的纳米制程。
就像目前三桑研究的3nm光刻机，由于极紫外光刻技术受到光电效应的影响，可能其实际线精度在十几纳米或20纳米。
不过这种纳米制程的芯片如果不用euv光刻机的话，也是弄不了的。
虽然各厂家的命名方法各有所别，但也不是完全没有意义。
长光机电所也在为接下来的14nm工艺光刻机刻苦攻坚。
只是没有极紫外光源，想要做成这样的光刻机恐怕很难。
“唉~”
陈所长也知道这需要不长的时间，可能几年、几十年，甚至最坏的结果——失败。
但是还是要继续攻研技术，要不然以后只能被人牵着牛鼻子走啊。
就在陈所长满心忧愁的时候，一个电话响了起来，打断了他的思绪。
他接起来一听，顿时眼睛睁瞪如灯笼般大小，惊声道：
“什么?燧人科技的极紫外光源成功了？！”
许黎看着试验台上的东西，终于是松了一口气。
“终于做出来了！”
然后他就瘫在椅子上，身心顿时放松了下来。
毕竟这吸转器可没有那么容易搞定。
需要尝试不同的吸收材料，对比参照实验，这样才能更大程度的处理碎屑污染。
经过一番筛选后，许黎在小黑的帮助下，成功弄出一种合成材料，才达到不错的碎屑吸收效率。
将其制成吸转器，可以将碎屑吸收，并且进一步的转化成电能。
其中的构造可谓是复杂无比。
这时，许黎听到身后有脚步走动的声音。
李默的身影就出现在他身旁，看了试验台那一个环状装置顿时眼睛一亮。
“校长，这吸转器搞出来了？”
“嗯，可费了我不少的脑细胞，现在赶紧将光源搞出来看看吧！”
许黎回道。
“那好，我叫徐教授过来。”
不久，徐华来到了实验室，对许黎做出来的吸转器亲自测试了一番，为此赞不绝口。
“这下子太好了，我们可以不用之前的两种方案类，直接安装吸转器就可以了，这样极紫外光源就可以搞出来了！”
徐华很是高兴地说道。
“啊哈~那你们先搞着，我先去隔壁休息了，熬了一夜了，有问题再叫我！”
许黎打了个哈欠。
“好，那校长你先休息一下，后面的工作就交给我们把。”
“嗯，好。”
许黎实在困得不行了，就直接出了实验室去了隔壁的休息室休息，那里有临时打的床铺，专门给经常熬夜研究的科研工作人员休息用的，还准备了一些必要的常规药品和直饮水机，以防不时之需。
许黎关上了门，闭上双眼，沉入梦境。
而梦境之内，他就像一个旁观者，浮于梦里，看到了一个个心想事成的片段：
国产极紫外光刻机横空出世、震惊世界，自己创办的燧人大学也正式进入了全国乃至世界的眼里，学子络绎不绝，仿佛汪洋大海般的，容纳这些孜孜不倦追求理想和智慧的学子....
而后就是一段一段的模湖片段，因为速度很快，看不清发生了什么。
但最后，他忽然辗转之间，来到群星之间，回首望去，一个星系在他眼前映现。
那是太阳系，人类赖以生存的恒星系。
而这时，一道流光似乎划破了星空，直入太阳系，带着宛如“彗星”的尾巴，消失不见了。
“校长！校长！”
忽然，一道兴奋而激动的声音在他耳边响了起来。
许黎从梦境挣脱，睁眼之时，只见李默已经在床前站着了。
许黎揉着惺忪的双眼，疑惑道：“怎么了？”
“成功了！我们的极紫外光源研制成功了！”
李默面色激动地道。
许黎立扫困意，睁大了眼，“真的？我们一起去看看！”
他也不顾李默了，直接离开休息室。
等他来到实验室后，发现已经有不少人正围着一个机器，有些还在一边拿笔记本或电脑记录着什么数据。
“校长，你来了。”
徐华见到许黎两人到了，挥手示意让其他人让出路来。
许黎走过来一看，发现一个箱形装置已经静静地躺在试验场地中央。
“这就是极紫外光源？成功了？”
许黎疑惑道。
“是的，我们已经成功将该光源研制出来了，再经过我们多次重复试验以及对比论证，现在，过程极紫外光刻光源已经完成了研制，加上我能独立设计的透镜物镜及其光学系统，其性能超过目前国汉斯猫的5倍左右，如果能够配合好的其他光刻机部件，那该组装完成的光刻机可以综合提升35%左右，可以制作性能优秀的5纳米芯片......”
徐教授兴奋地解释道。
他还从来没有相关，一个工业明珠上的皇冠的一个核心部件，就这样被他们攻克了。
只要给他们时间，燧人科技也能挤进全球半导体顶尖玩家的殿堂，成为euv光刻机部件供应链的厂商之一。
到时候也能在半导体领域上拥有自己的话语权，即使没有拥有全套的光刻机制造技术，但是起码不至于让国内这么的被动。
“既然如此，我们也应该通知一下我们的盟友，想必他们也等急了。”
许黎一笑。
“好！”
徐华应了一声。
春城，长光电所
陈所长此刻正愁着怎么改进光刻机呢。
虽然之前已经通过花为的牵线搭桥和燧人科技搭上了，主要是合作改造现有光刻机。
而这个改造的光刻机主要是28nm的光刻机，因为现在国内的光刻机也只能勉强达到28nm工艺。
据魔都微电子透露，明年他们有望交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。
算是在刚好迈在高端光刻领域的门槛，也就是现在国内的光刻科技水平还停留在中端水平。
根据光刻机工艺水平，光刻机主要划分为超高端、高端、中端、低端四个层次。
首先，光源euv13.5nm、节点5nm/7nm的光刻机是处于超高端层次的，全球只有amsl这一家公司可以组装制造。
其次，光源arf+浸入式，节点在7~28nm处于高端层次的。
最后，光源arf/krf/i-line，且节点是65nm+或90nm+的，分别处于中端、低端层次。
注意，这里的arf/krf指的是深紫外光刻光源。
想要制作更好的的芯片，那就得造出更好的光源，比如极紫外光源（euv）。
即使是这种arf 28nm光刻机和amsl公司最先进的euv5nm光刻机工艺有着天壤之别。
但是也能将国内的光刻水平提升到世界先进水平，完全可以满足常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、电器的驱动芯片等绝大部分逻辑芯片的要求，以及大部分数字芯片的要求。
陈所长也听说三桑目前正在研究3nm芯片工艺的光刻机，也许很多人都以为很厉害，但是对于他这种业界的人自然知道其中的道道。
现在的7nm或5nm芯片，不是从前的含义，最准确的是牙膏厂的命名，只是它也学坏了。
芯片的纳米制程并不是真的几纳米，更多是一种更新迭代的说法。
上一代可能是4nm，下一代根据摩尔定律乘以根号7，差不多3nm。
以前的制程是指晶体管的宽度，现在则是晶体管的沟道宽度，就出了这种个位数的纳米制程。
就像目前三桑研究的3nm光刻机，由于极紫外光刻技术受到光电效应的影响，可能其实际线精度在十几纳米或20纳米。
不过这种纳米制程的芯片如果不用euv光刻机的话，也是弄不了的。
虽然各厂家的命名方法各有所别，但也不是完全没有意义。
长光机电所也在为接下来的14nm工艺光刻机刻苦攻坚。
只是没有极紫外光源，想要做成这样的光刻机恐怕很难。
“唉~”
陈所长也知道这需要不长的时间，可能几年、几十年，甚至最坏的结果——失败。
但是还是要继续攻研技术，要不然以后只能被人牵着牛鼻子走啊。
就在陈所长满心忧愁的时候，一个电话响了起来，打断了他的思绪。
他接起来一听，顿时眼睛睁瞪如灯笼般大小，惊声道：
“什么?燧人科技的极紫外光源成功了？！”